產業消息 康寧 半導體 EUV 光罩 High NA EUA 康寧推出用於改進晶圓光罩的EXTREME ULE Glass材料，可承受包括High NA EUA等高強度極紫外光製程 雖然康寧對一般消費者多因為其玻璃餐具與智慧手機的螢幕玻璃基板而認識，不過康寧也將其玻璃技術應用在最先進的半導體領域，其中也包括用於光罩的玻璃材料；康寧宣布針對新一代晶片製程推出Corning EXTREME ULE Glass材料，能協助晶圓製造商改進光罩，強調足以承受包括High NA EUA(高數值孔徑)等高強度極紫外光黃光製程，並滿足EUV黃光製程對於玻璃材料熱穩定與均質的要求。 ▲EXTREME ULE Glass是康寧ULE玻璃的發展，能滿足EUV黃光製程對於玻璃材料熱穩定與均質的嚴格要求 EXTREME ULE Glass具備的熱膨脹特性能協助所有光罩提供出色的一致性與性能，同時E Chevelle.fu 6 個月前
產業消息 NVIDIA GTC nvidia 台積電 新思科技 cuLitho 光罩 微影 GTC 2024：台積電、新思科技將NVIDIA運算式微影平台cuLitho投產，使半導體運算密集工作加速60倍 NVIDIA宣布台積公司(TSMC)與新思科技(Synopsys)將NVIDIA的NVIDIA cuLitho運算式微影平台投入生產，透過GPU加速運算取代CPU，將能使半導體產業運算密集型工作負載加速40至60倍，加速晶片製造，而NVIDIA Blackwell GPU也將成為受益者。NVIDIA也推出全新生成式AI演算法增強cuLitho，相較當前基於CPU的方式顯著改善半導體製造流程。 cuLitho運算式微影技術是於2023年宣布，由NVIDIA與台積電、新思科技合作的技術，透過GPU加速運算的cuLitho應用於半導體微縮，相較以往透過CPU執行微影運算更具效率。 傳統利用CPU進行 Chevelle.fu 1 年前
