產業消息 intel 半導體 ASML Intel 20A 曝光機 Intel 18A Intel歡慶ASML的High NA EUV設備抵達俄勒岡工廠，拍攝運送與架設過程短片 Intel在3月2日釋出一段短片，慶祝ASML的High NA EUV曝光設備正式運抵美國俄勒岡工廠並進行安裝，這套系統是Intel於2022年向ASML訂購新一代曝光機TWINSCAN EXE:5200的關鍵元件，是作為Intel於2025年大規模量產NA EUV計畫的一環，特地拍攝短片也可視為Intel半導體向外界信心喊話的宣傳。 ▲運算階段還在保護的箱體綁了紅緞帶 ▲此次的系統為Intel於2022年下定的新一代ASML曝光設備 Intel已在2018年向ASML訂購前一代的TWINSCAN EXE:5000，而TWINSCAN EXE:5200的NA(數值孔徑)為0.55，相較前一代系 Chevelle.fu 1 年前
產業消息 半導體 中美貿易戰 ASML 光刻機 曝光機 傳美國施壓荷商ASML別賣曝光機給中國 連舊款都不賣繼續卡住中國晶片產業 美國官員正在遊說荷蘭商ASML別賣舊款深紫外光DUV曝光機給中國，這系列機器是舊款技術，代表美國不論是新舊晶片都要卡死中國。不過這個消息美國商務部和荷蘭外交部都拒絕評論就是。 據彭博新聞社報導，美國在擴大遏制中國崛起的運動。報導引述知情人士透露，美國正在向荷蘭施壓，要求禁止艾司摩爾（ASML Holding NV）向中國出售製造全球大量晶片至關重要的主流技術。 華府提議的限制措施，將使向中國出售最先進系統的限制範圍進一步擴大，企圖阻止中國成為全球晶片生產領導者的計畫。如果荷蘭同意，目前禁止進入中國的晶片製造設備範圍和類別將大幅擴大，從而可能令中芯國際和華虹半導體等晶片製造商受到沉重打擊。 知情 中央社 2 年前
