Intel 在由 Pat Gelsinger 接任執行長後積極推動半導體製程發展，除了全球廣設新廠房的規劃與發展新製程以外， Intel 也積極進行新一代設備採購，宣布向荷蘭 ASML 下定業界首台 TWINSCAN EXE：5200 系統，為 2025 年量產 High-NA 高數值孔徑率先準備。
Intel 在 2021 年 7 月 Accelarated 活動宣布 High-NA 技術計畫版圖，此次也是 Intel 在 2018 年率先向 ASML 下定 TWINSCAN EXE：5000 系統後，再度成為 ASML 新一代系統的首位買家。
TWINSCAN EXE：5200 系統是一款具備 High-NA 極紫外光 EUV 的大量生產系統，具備每小時 200 片以上產能，而 ASML 的 EXE 平台是 EUV 技術的發展型，借助新穎光學設計與大幅提升速度的光罩與晶圓階段，相較原本 EUV 設備的 0.33 數值孔徑鏡片，能提供更精準的 0.55 數值孔徑，足以為更小的電晶體特徵提供解析度圖案化。
