美光宣布將日本廣島工廠導入 10nm 技術並用於下一代的 DRAM 產品，並將陸續投資達 5,000 億日幣，此次的投資案也獲得日本政府的支持；這也是美光首度在日本投入 EUV 技術，預計作為 1γ節點（10nm 製程）的 DRAM 生產；美光預計在 2025 年後於台灣以及日本工廠量產 1γ 節點的 DRAM 。
▲美光當前最先進的製程為用於 LPDDR5X 生產的 13nm ( 1β )，美光預計 2025 年在台灣、日本量產 10nm 製程
此次的擴大投資也是日本經濟產業省的日美半導體合作布局之一，希冀能夠吸引美國半導體公司在日本投資生產基地，並強化包括經濟安全在內的國際戰略，美光則是唯一一家在日本生產 DRAM 的美國企業，並供應日本重心產業當中 1/3 的 DRAM 。
